技术简介：通过化学方法实现具有高度分散性和均匀性的纳米氧化铈粒子的尺寸可控合成，对抛光粉的生产工艺进行改造，以提高抛光粉的质量，增加其实用性，解决抛光粉普遍存在的抛光粒度不均匀，外形不规则，切削力不好，抛光时容易产生划痕且抛光速度不高等实际问题。
技术优势：开发具有自主知识产权的抛光材料以满足半导体和集成电路以及精密民用等领域的专用高端抛光材料的需求。目前，我们的材料应用在了芯片，光刻机曝光光学系统关键易损件，熔石英，掩膜石英基板等领域，抛光前后，表面粗糙度和光洁度都有很大提升，满足了用户需求。
纳米抛光材料
米级超大光栅应用
光掩模基板应用